Les cibles de pulvérisation sont principalement utilisées dans l'industrie de l'information électronique, telles que les circuits intégrés, le stockage d'informations, l'affichage à cristaux liquides, la mémoire laser, les dispositifs de commande électroniques, etc. Il peut également être utilisé dans le revêtement en verre, les matériaux résistants à l'usure, la résistance à la corrosion à haute température, produits décoratifs de haute qualité et autres industries. Le collage fait référence à la liaison d'une cible à une cible arrière avec la soudure. En Savoir Plus »

La pureté de la cible de céramique a une grande influence sur la performance du film de pulvérisation. Plus la pureté est élevée, meilleure est l'uniformité du film de pulvérisation et la qualité des produits de lot. De plus, afin de préparer une cible en céramique haute performance, nous devrions contrôler ces facteurs, notamment la méthode de moulage, la taille des matières premières, l'effet de frittage, aujourd'hui pour analyser les principaux facteurs qui affectent les performances de la céramique cible sont celles-ci. En Savoir Plus »

Le matériau cible est le matériau de fabrication de film mince, à l'aide du matériau cible bombardé par des particules chargées à grande vitesse, à travers un autre laser (faisceau d'ion) et une interaction de matériau cible différente pour obtenir un système de membrane différent, pour obtenir la fonction de conduction et de blocage. . Par conséquent, la cible est également appelée \"cible de pulvérisation \". Son principe de travail consiste à utiliser les ions générés par la source d'ions pour rassembler et accélérer sous vide En Savoir Plus »

Le revêtement de pulvérisation de magnétron est un nouveau procédé de revêtement de phase de gaz physique, qui consiste à utiliser le système de pistolet à électrons pour émettre des électrons et à se concentrer sur le matériau revêtu, de sorte que les atomes de pulvérisation suivent le principe de conversion de l'élan pour s'envoler du matériau avec une cinétique élevée. énergie au film de dépôt du substrat. Ce matériau plaqué s'appelle la cible de pulvérisation. En Savoir Plus »

Nickel Target en métal, Ni, Titanium, Ti, Zinc, Zn, Chromeium, Cr, Magnésium, Mg, Niobium, NB, Tin, Sn, Aluminium, Al, Indium, Indium, In, Fe, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Zirconium, Tial, Zirconium, ZR, Silicon en aluminium, Alsi, Silicon, Si, cuivre, Cu, Tantalum, T, Tantalum, Target d'argent, cible AG, cible de cobalt, cible COBALT, CIBLE GOLD, CIBLE AU, Cible Gadolinium En Savoir Plus »

La poudre d'oxyde d'indium et d'étain est un composé d'oxyde d'indium et d'oxyde d'étain, ce n'est pas seulement un mélange de deux oxydes. Il est fabriqué par coprécipitation chimique et possède une grande conductivité transparente et une réflexion infrarouge. L'oxyde d'étain d'indium a deux types d'apparence de couleur, l'oxyde d'étain d'indium jaune et En Savoir Plus »

Un système de pile à combustible à eau de mer au magnésium développé par l'Institut de Dalian de Physique Chimique de l'Académie Chinoise des Sciences (ci-après dénommé \"Dalian Compounds Institute \") a réussi un test en mer dans une profondeur de 3000 mètres, réalisant le premier application pratique de En Savoir Plus »