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Cible de pulvérisation d'oxyde d'oxyde de sodium et d'oxynitrure d'aluminium

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  • 03-07
    2022
    [Nouvelles] Target de pulvérisation pour binder la cible
    Les cibles de pulvérisation sont principalement utilisées dans l'industrie de l'information électronique, telles que les circuits intégrés, le stockage d'informations, l'affichage à cristaux liquides, la mémoire laser, les dispositifs de commande électroniques, etc. Il peut également être utilisé dans le revêtement en verre, les matériaux résistants à l'usure, la résistance à la corrosion à haute température, produits décoratifs de haute qualité et autres industries. Le collage fait référence à la liaison d'une cible à une cible arrière avec la soudure. En Savoir Plus »
  • 03-04
    2022
    [Nouvelles] Céramique cible-trois facteurs principaux affectant les propriétés de celui-ci
    La pureté de la cible de céramique a une grande influence sur la performance du film de pulvérisation. Plus la pureté est élevée, meilleure est l'uniformité du film de pulvérisation et la qualité des produits de lot. De plus, afin de préparer une cible en céramique haute performance, nous devrions contrôler ces facteurs, notamment la méthode de moulage, la taille des matières premières, l'effet de frittage, aujourd'hui pour analyser les principaux facteurs qui affectent les performances de la céramique cible sont celles-ci. En Savoir Plus »
  • 02-18
    2022
    [Nouvelles] Cibles de pulvérisation de pureté élevées pour chips à semi-conducteurs
    La cible de pulvérisation est le facteur le plus important pour déterminer le rendement de semi-conducteur. Tellement appliqué au semi-conducteur et au degré de précision requis, est la pureté la plus élevée, le degré de pureté de matières cibles et la précision de la cible de pulvérisation affectera directement les performances de semi-conducteur, la différence de matériaux cible de pulvérisation est la conséquence la plus directe du court-circuit semi-conducteur En Savoir Plus »
  • 02-03
    2022
    [Nouvelles] Quelle est la cible de pulvérisation?
    Le revêtement de pulvérisation de magnétron est un nouveau procédé de revêtement de phase de gaz physique, qui consiste à utiliser le système de pistolet à électrons pour émettre des électrons et à se concentrer sur le matériau revêtu, de sorte que les atomes de pulvérisation suivent le principe de conversion de l'élan pour s'envoler du matériau avec une cinétique élevée. énergie au film de dépôt du substrat. Ce matériau plaqué s'appelle la cible de pulvérisation. En Savoir Plus »
  • 09-09
    2020
    [Nouvelles] Un instrument portable de mesure de la surchauffe instantanée pour l'aluminium électrolytique a été développé avec succès
    Récemment, un type d'artefact d'économie d'énergie en aluminium électrolytique appelé instrument de mesure en temps réel de la surchauffe du pré-réservoir portable a été développé avec succès.L'instrument de mesure est développé par Beijing Core Power Technology Co., Ltd.sur la base des mesures de température du cristal d'origine. En Savoir Plus »
  • 07-30
    2020
    [Nouvelles] Des batteries au sodium efficaces et peu coûteuses sont disponibles
    Selon un rapport publié par THE WEBSITE of Russia Today le 15 juillet, des scientifiques russes et allemands ont mis au point un nouveau procédé de fabrication de batteries au sodium.La batterie au sodium peut remplacer l'utilisation actuelle des batteries au lithium, présente de nombreux avantages: une réduction significative de la coût de fabrication, lith En Savoir Plus »