La cible de pulvérisation est le facteur le plus important pour déterminer le rendement de semi-conducteur. Tellement appliqué au semi-conducteur et au degré de précision requis, est la pureté la plus élevée, le degré de pureté de matières cibles et la précision de la cible de pulvérisation affectera directement les performances de semi-conducteur, la différence de matériaux cible de pulvérisation est la conséquence la plus directe du court-circuit semi-conducteur En Savoir Plus »

1. Le matériau d'enregistrement magnétique à haute densité peut améliorer considérablement les performances du ruban adhésif et des disques durs et doux de grande capacité en utilisant les avantages de la densité d'enregistrement élevée, une forte coercitivité (jusqu'à 119,4KA / m), un rapport signal-bruit élevé et bonne résistance à l'oxydation de la poudre nano-cobalt; 2. Fluide magnétique avec fer à repasser, cobalt, nickel et leur poudre d'alliage de performances excellentes, peuvent être largement utilisés dans l'absorption des chocs, la régulation sonore, l'affichage de la lumière, etc. En Savoir Plus »

L'oxyde de zinc a une grande bande de bande et une énergie de liaison d'exciton, une transparence élevée, une excellente performance luminescence à la température ambiante et a été utilisée dans le champ semi-conducteur de l'affichage à cristaux liquides, des transistors à film mince, des diodes électroluminescentes et d'autres produits. De plus, comme une sorte d'oxyde de zinc nanomatériau et microgranulaire a également commencé à jouer un rôle dans les domaines connexes. En Savoir Plus »

Le Tantalum et l'alliage de Tantalum présentent les avantages du point de fusion élevé, une bonne résistance à la corrosion, une excellente résistance à la température élevée, une bonne performance d'usinage, une soudure, une faible transition plastique / fragile et d'excellentes propriétés mécaniques dynamiques. Il est largement utilisé dans l'électronique, les armes, l'industrie chimique, l'industrie aérospatiale et le système d'alimentation nucléaire de l'espace, etc. Il s'agit d'un matériau structurel idéal pour travailler à 1600 ℃ ~ 1 800. En Savoir Plus »

L'oxyde de magnésium léger est un produit très largement utilisé et le processus de production d'oxyde de magnésium léger est très respectueux de l'environnement, le processus de production domestique plus avancé d'oxyde de magnésium léger est généralement comme suit: 1. L'oxyde de magnésium léger est calciné dans un rotail traditionnel four de calcination avec hydroxyde de magnésium comme principale matière première; En Savoir Plus »

Quels sont les principaux avantages et inconvénients de la CVD? CVD utilise un ou plusieurs gaz pour réagir chimiquement sur un substrat solide chauffé et le recouvrir d'un film solide. Avantages: 1. Les exigences de degré de vide ne sont pas élevées, même n'ont même pas besoin d'aspirateur, telles que le revêtement de pulvérisation à chaud; 2. Taux de dépôt rapide, CVD atmosphérique peut atteindre 1 μm / min; 3. Comparé à la PVD. La composition chimique ou le revêtement en alliage est plus facile à atteindre; En Savoir Plus »

À l'heure actuelle, la production et l'application de nanomatériaux ont attiré l'attention de tous les pays. La nanotechnologie de la Chine a fait des progrès continus, au niveau des nano2, TiO2, AL2O3, ZNO2, FE2O3 et d'autres matériaux en poudre, a réussi la production industrielle ou la production d'essai, mais le processus de production existant, le coût de production élevé est sa faiblesse fatale, affectera La promotion et l'application de nanomatériaux, nous devrions donc continuer à améliorer. En Savoir Plus »

La cible de tungstène haute pureté est un substrat important pour la transition du film oxyde de tungstène dans des dispositifs à semi-conducteurs. En raison du point de fusion élevé du tungstène, les cibles de tungstène sont principalement préparées par la métallurgie en poudre. La méthode de préparation comprend la pureté de 99,999% ou plus, la taille des particules de 3,2 4,2 μm de poudre de tungstène pour un mélange uniforme, placée dans le four de traitement thermique sous vide pour pré-dégazer, puis en hydrogène, puis en chauffant des marches de dégazage de chauffage En Savoir Plus »

L'application de nanomatériaux dans divers domaines Les nanomatériaux ont un effet de volume, un effet de surface, un effet de taille quantique, un effet de tunnnel quantique macroscopique, etc., ce qui les rend actuellement présents que les matériaux classiques n'ont pas d'électricité, de magnétisme, de lumière et d'autres aspects. Les scientifiques et les ingénieurs ont résolu de nombreux problèmes techniques en utilisant les propriétés spéciales des nanomatériaux. En Savoir Plus »

Basé sur des dispositifs de silicium sur la conception et le développement, a subi de nombreuses générations de structure et de processus d'optimisation et de renouvellement des processus, est progressivement proche de la limite du matériau de silicium, basée sur le potentiel d'amélioration de la performance des dispositifs de silicium devenir de plus en plus petite à Le nitrure de gallium, le carbure de silicium en tant que représentant de la troisième génération de semi-conducteurs possèdent d'excellentes propriétés physiques des matériaux afin d'améliorer encore les performances du dispositif électronical de puissance constitue un espace plus important. En Savoir Plus »

La recherche et l'application de la Terre rare dans des matériaux fonctionnels comprennent principalement des nanomatériaux terrestres rares, des nanomatériaux ultrafines de terre rares, l'application de terres rares dans des polymères fonctionnels, l'étude du stabilisateur thermique de PVC basé sur la Terre rare et de ses performances qui suppriment le smog et la préparation et la performance du catalyseur de nanoalloy de terres rares, principalement utilisée dans les matériaux de stockage d'hydrogène et l'industrie des applications d'énergie hydrogène. En Savoir Plus »

Le revêtement de pulvérisation de magnétron est un nouveau procédé de revêtement de phase de gaz physique, qui consiste à utiliser le système de pistolet à électrons pour émettre des électrons et à se concentrer sur le matériau revêtu, de sorte que les atomes de pulvérisation suivent le principe de conversion de l'élan pour s'envoler du matériau avec une cinétique élevée. énergie au film de dépôt du substrat. Ce matériau plaqué s'appelle la cible de pulvérisation. En Savoir Plus »

Le zirconium boride est un matériau courant dans les borides, et il existe trois types de borure de zirconium dans le système de zirconium de bore, respectivement, le monoborure de zirconium (ZRB), le zirconium diboride (ZRB2) et le zirconium douze borides (ZRB12). Cependant, en raison de la bonne stabilité du zirconium diboride dans une large plage de températures, la production industrielle de boride de zirconium est principalement du zirconium diboride comme composant principal. En Savoir Plus »

Le carbure de Boron, également connu sous le nom de diamant noir, est une forme organique. La forme moléculaire est B₄C. C'est généralement une poudre fine grisâtre-noire. C'est l'un des trois matériaux les plus difficiles connus (les autres sont du diamant et du nitrure de bore cubique) et sont utilisés dans de nombreuses applications industrielles. Il a une dureté mohs de 9.3. Alors, quelles sont les propriétés et les propriétés chimiques du carbure de Boron? En Savoir Plus »

Quelles conditions les poudres métalliques doivent-elles répondre afin de répondre aux exigences des documents d'impression 3D? Les inclusions en céramique réduiront considérablement les performances du produit final et ces inclusions ont généralement un point de fusion élevé et sont difficiles à fritter, sans aucune inclusion de céramique ne doit être dans la poudre. En Savoir Plus »