Quel est le dépôt de vapeur chimique (CVD)?

Quels sont les principaux avantages et inconvénients de la CVD?

CvdUtilise un ou plusieurs gaz pour réagir chimiquement sur un substrat solide chauffé et le recouvrir d'un film solide.

Avantages:

1. Les exigences de degré de vide ne sont pas élevées, même n'ont même pas besoin d'aspirateur, telles que le revêtement de pulvérisation à chaud;

2. Taux de dépôt rapide, CVD atmosphérique peut atteindre 1 μm / min;

3. Comparé à la PVD. La composition chimique ou le revêtement en alliage est plus facile à atteindre;

4. La composition du revêtement est diversifiée, telle que le métal, le métal, le semi-conducteur, les matériaux photoélectriques, le film diamant;

5. Peut être dans la forme complexe du revêtement de substrat, même en céramique poreuse;

6. L'uniformité d'épaisseur est bonne et la CVD à basse tension peut même placer des dizaines de puces en même temps.

Désavantages:

1. Les mécanismes de la thermodynamique et de la réaction chimique ne sont pas facilement compris ou mal compris;

2. Il faut être effectué à haute température, un substrat ne peut pas résister, et même l'effet de revêtement;

3. Le gaz de réaction peut être corrosif, toxique ou explosif, alors faites attention à la manipulation;

4. Les produits de réaction peuvent rester sur le revêtement et devenir des impuretés;

5. Le blindage du substrat est difficile.