Target en céramique en céramique oxyde
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium (In2O3)
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2)
- Oxyde de titane de bismuth (Bi4Ti3O12)-cible de pulvérisation cathodique
- Cible de pulvérisation rotative à l'oxyde de zinc dopé à l'alumine (ZnO-Al2O3)
- Cible de pulvérisation cathodique de pentoxyde de tantale (Ta2O5)
- Cible de pulvérisation d'oxyde de tellure (TeO2)
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'antimoine (Sb2O3)
- Indium Zinc Tin Oxide (In2O3:ZnO:SnO2 90:7:3 Wt%）)-Cible de pulvérisation cathodique
- Oxyde de zinc d'indium (In2O3:ZnO （90:10 Wt%）)-cible de pulvérisation
- Cible de pulvérisation d'oxyde de gallium (GTO) (Ga2O3-SnO2)