Target en céramique en céramique oxyde
- Cible de pulvérisation d'oxynitrure d'aluminium (AlON)
- Cible de pulvérisation d'oxyde de bismuth (Bi2O3)
- Cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO3)
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'hafnium et de zirconium (HfO2/ZrO2)
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé au fluor (SnO2-SnF2 (90:10 % en poids)
- Oxyde d'étain d'indium (In2O3-SnO2 (90:10 % en poids))-cible de pulvérisation
- Oxyde d'indium-gallium-zinc (In2O3-Ga2O3-ZnO (1:1:1 Mol%))-cible de pulvérisation
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium-oxyde de gallium (In2O3-Ga2O3)
- Oxyde d'indium-oxyde de titane (In2O3-TiO2 (91:9 Wt%))-cible de pulvérisation
- Cible de pulvérisation d'oxyde de cadmium (CdO)