Target en céramique en céramique oxyde
- Cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO3)
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé au fluor (SnO2-SnF2 （90:10 % en poids)
- Oxyde d'étain d'indium (In2O3-SnO2 （90:10 % en poids）)-cible de pulvérisation
- Oxyde d'indium-gallium-zinc (In2O3-Ga2O3-ZnO （1:1:1 Mol%）)-cible de pulvérisation
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium-oxyde de gallium (In2O3-Ga2O3)
- Oxyde d'indium-oxyde de titane (In2O3-TiO2 （91:9 Wt%）)-cible de pulvérisation
- Cible de pulvérisation d'oxyde de cadmium (CdO)
- Cible de pulvérisation cathodique de pentoxyde de niobium (Nb2O5)
- Cible de pulvérisation d'oxyde de germanium (GeO2)
- Cible de pulvérisation d'oxyde de gallium (Ga2O3)