Cibles de pulvérisation céramique
- Cible de pulvérisation cathodique de siliciure de chrome (CrSi2)
- Cible de pulvérisation cathodique en siliciure de titane (I) (TiSi)
- Cible de pulvérisation cathodique de pentoxyde de tantale (Ta2O5)
- Cible de pulvérisation d'oxyde de tellure (TeO2)
- Cible de pulvérisation d'oxyde d'antimoine (Sb2O3)
- Indium Zinc Tin Oxide (In2O3:ZnO:SnO2 90:7:3 Wt%）)-Cible de pulvérisation cathodique
- Oxyde de zinc d'indium (In2O3:ZnO （90:10 Wt%）)-cible de pulvérisation
- Cible de pulvérisation d'oxyde de gallium (GTO) (Ga2O3-SnO2)
- Oxyde de zinc (dopé P) (ZnO (dopé P2O5)-cible de pulvérisation cathodique
- Oxyde de zinc dopé à l'oxyde de magnésium (ZnO-MgO (90/10 At% ))-cible de pulvérisation