Oxyde de gallium (Ga2O3)-poudre

Description du produit

Caractéristique


Le trioxyde de gallium (III) est un composé inorganique de formule Ga2O3.Il existe sous forme de plusieurs polymorphes, qui sont tous des solides blancs insolubles dans l'eau.Bien qu'aucune application commerciale n'existe, Ga2O3est un intermédiaire dans la purification du gallium, qui est consommé presque exclusivement sous forme d'arséniure de gallium.


Formule chimique :Ga2O3

Masse molaire : 187,444 g/mol

Aspect : poudre cristalline blanche

Densité : 6,44 g/cm3, alpha

5,88 g/cm3, bêta

Point de fusion : 1 900 °C (3 450 °F ; 2 170 K) alpha

1725 °C, bêta

Solubilité dans l'eau : insoluble

Solubilité : soluble dans la plupart des acides



Application


L'oxyde de gallium (III) a été étudié dans l'utilisation de lasers, de luminophores et de matériaux luminescents.Il a également été utilisé comme barrière isolante dans les jonctions serrées. Monoclinique β-Ga2O3est utilisé dans les capteurs de gaz et les luminophores luminescents et peut être appliqué aux revêtements diélectriques des cellules solaires.Cet oxyde stable a également montré un potentiel pour les oxydes conducteurs transparents dans l'ultraviolet profond et les applications de transistors.


-Ga2O3des films minces déposés sur du saphir présentent des applications potentielles en tant que photodétecteur UV aveugle au soleil.


Ga mince2O3les films présentent un intérêt commercial en tant que matériaux sensibles aux gaz et Ga2O3.L'ellipsométrie est une procédure qui peut être utilisée pour déterminer les fonctions optiques du -Ga2O3.


-Ga2O3est utilisé dans la production de Ga2O3-Al2O3catalyseur.



FDS

Nitride de gallium (GaN) -Sutilisation cible

Nitrure de gallium (GaN)-Palette

Nitrate de gallium (Ga(NO3)3)-poudre

Plaquette d'arséniure de gallium (GaAs)

Cible de pulvérisation de phosphure de gallium (GaP)

Poudre de sulfure de gallium (GaS)

Tellurure de gallium (GaTe)-Poudre