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12039-88-2
WSi2
741400PD
99,5 %
- 625 mailles, - 200 mailles
234-909-0
Caractéristique
Siliciure de tungstène (WSi2) est un composé inorganique, un siliciure de tungstène.C'est un matériau céramique électriquement conducteur.
Formule chimique : WSi2
Masse molaire : 240,011 g/mol
Aspect : cristaux tétragonaux bleu-gris
Densité : 9,3 g/cm3
Point de fusion : 2 160 °C (3 920 °F; 2 430 K)
Solubilité dans l'eau : insoluble
Application
Il est utilisé en microélectronique comme matériau de contact, avec une résistivité de 60 à 80 μΩ cm ;il se forme à 1000 °C.Il est souvent utilisé comme shunt sur les lignes en polysilicium pour augmenter leur conductivité et augmenter la vitesse du signal.Les couches de siliciure de tungstène peuvent être préparées par dépôt chimique en phase vapeur, par exemple en utilisant du monosilane ou du dichlorosilane avec de l'hexafluorure de tungstène comme gaz source.Le film déposé est non stoechiométrique et nécessite un recuit pour se convertir en une forme stoechiométrique plus conductrice.Le siliciure de tungstène remplace les films de tungstène antérieurs.Le siliciure de tungstène est également utilisé comme couche barrière entre le silicium et d'autres métaux, par exemple le tungstène.
Le siliciure de tungstène est également utile pour une utilisation dans les systèmes microélectromécaniques, où il est principalement appliqué sous forme de films minces pour la fabrication de circuits à micro-échelle.A ces fins, des films de siliciure de tungstène peuvent être gravés au plasma en utilisant par exemple du trifluorure d'azote gazeux.
WSi2fonctionne bien dans les applications comme revêtements résistants à l'oxydation.En particulier, en similitude avec le disiliciure de molybdène, MoSi2, l'émissivité élevée du disiliciure de tungstène rend ce matériau attrayant pour le refroidissement radiatif à haute température, avec des implications dans les boucliers thermiques.
Caractéristique
Siliciure de tungstène (WSi2) est un composé inorganique, un siliciure de tungstène.C'est un matériau céramique électriquement conducteur.
Formule chimique : WSi2
Masse molaire : 240,011 g/mol
Aspect : cristaux tétragonaux bleu-gris
Densité : 9,3 g/cm3
Point de fusion : 2 160 °C (3 920 °F; 2 430 K)
Solubilité dans l'eau : insoluble
Application
Il est utilisé en microélectronique comme matériau de contact, avec une résistivité de 60 à 80 μΩ cm ;il se forme à 1000 °C.Il est souvent utilisé comme shunt sur les lignes en polysilicium pour augmenter leur conductivité et augmenter la vitesse du signal.Les couches de siliciure de tungstène peuvent être préparées par dépôt chimique en phase vapeur, par exemple en utilisant du monosilane ou du dichlorosilane avec de l'hexafluorure de tungstène comme gaz source.Le film déposé est non stoechiométrique et nécessite un recuit pour se convertir en une forme stoechiométrique plus conductrice.Le siliciure de tungstène remplace les films de tungstène antérieurs.Le siliciure de tungstène est également utilisé comme couche barrière entre le silicium et d'autres métaux, par exemple le tungstène.
Le siliciure de tungstène est également utile pour une utilisation dans les systèmes microélectromécaniques, où il est principalement appliqué sous forme de films minces pour la fabrication de circuits à micro-échelle.A ces fins, des films de siliciure de tungstène peuvent être gravés au plasma en utilisant par exemple du trifluorure d'azote gazeux.
WSi2fonctionne bien dans les applications comme revêtements résistants à l'oxydation.En particulier, en similitude avec le disiliciure de molybdène, MoSi2, l'émissivité élevée du disiliciure de tungstène rend ce matériau attrayant pour le refroidissement radiatif à haute température, avec des implications dans les boucliers thermiques.
