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Nombre Parcourir:1 auteur:Éditeur du site publier Temps: 2021-12-03 origine:Propulsé
Comme nous le savons tous, la cible de l'ITO pulvérisation est un semi-conducteur en céramique gris noir formé en mélangeant de la poudre d'oxyde d'indium et de poudre d'oxyde d'étain dans une certaine proportion dans une atmosphère à haute température (1600 degrés, frittage en oxygène) à travers une série de processus de production. La cible ITO a été utilisée comme matière première pour oxyder le film ITO sur le substrat de verre ou le film organique flexible par pulvérisation de magnétron. Le film ITO a une transmission et une transmission de la lumière, et son épaisseur est généralement de 30 nm à 200 nm.
Le pressage à chaud est un processus pour densifier les matériaux céramiques en utilisant de l'énergie thermique et de l'énergie mécanique, qui peut produire des cibles céramiques ITO d'une densité de 91% à 96%. Le processus est le suivant: Chauffer le moule, ajouter l'échantillon, fixez le moule à la plaque chauffante (contrôler la température de fusion et le temps), puis faites fondre l'échantillon, durcissez-le, refroidissez-le et retirez enfin le produit fini.
Le pressage isostatique chaud (HIP) peut être considéré comme un frittage sous pression ou une pression de température élevée. Comparé au frittage traditionnel sans presse, le pressage isostatique chaud peut rendre le matériau complètement compact à une température inférieure (généralement environ 0,5 ~ 0,7 fois le point de fusion du matériau). Il peut bien contrôler la structure, retenir la croissance du grain et obtenir une structure uniforme et isotrope. Le processus de préparation de la cible ITO par pressage isostatique chaud est le suivant. Premièrement, la poudre de solution solide ito a été partiellement réduite dans une certaine atmosphère réductrice (comme un mélange de H2, N2 et H2) et à 300-500. La poudre réduite est ensuite pressée dans les préformes par moulage ou pressage isostatique froid. Les préformes sont placées dans des récipients en acier inoxydable avec une isolation entre eux. Le conteneur est ensuite aspiré et scellé. Enfin, le matériau Cible ITO a été préparé en plaçant le conteneur dans un four à pression isostatique chaude à 800 ~ 1050 et 50 ~ 200 mpa pendant 2 à 6 heures.
La température ambiante, le frittage est une méthode de préparation cible développée au début des années 90. Il utilise la méthode de précompression (ou la méthode de coulée de la boue) pour préparer la cible à haute densité préfabriquée, puis le frittage sous une certaine atmosphère et une certaine température. Le processus principal de la méthode de frittage atmosphérique est la suivante: la poudre IN2O3 (avec une certaine densité de vibration) et la poudre SNO2 mélangée, préparée dans la boue de coulée de la boue. Il est ensuite déshydraté et dégraissé pendant une longue période à 300 ~ 500 et enfin fritté dans une atmosphère pure de l'oxygène ou de l'air à une pression de plus d'une atmosphère à une température de frittage de 1450 à 1550 ° C.
Le pressage isostatique froid (CIP) prend du caoutchouc ou du plastique sous forme de matériau de couverture et de liquide comme support de pression pour offrir une haute pression à la température ambiante. Sous la protection de l'atmosphère d'oxygène basse pression, la poudre ITO a été enfoncée dans une grande tige préfabriquée en céramique par pressage isostatique froid, puis fritté à 1500 ~ 1600 dans l'environnement pure d'oxygène de 0,1 ~ 0,9 MPa. Cette méthode peut théoriquement produire des objectifs en céramique avec une densité de 95%.
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