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Caractéristique
Le monoxyde de silicium est un composé inorganique, sa formule chimique est SiO, sous une température et une pression normales, une poudre amorphe de couleur brun noir à loess, insoluble dans l'eau, peut se dissoudre dans l'acide fluorhydrique dilué et l'acide nitrique mélangés et libérer du tétrafluorure de silicium, lorsqu'il est chauffé dans l'air pour produire de la poudre blanche de dioxyde de silicium. Le monoxyde de silicium est instable et s'oxyde en silice dans l'air.
Formule chimique¼šSiO
Masse molaire 44,08 g/mol
Aspect : solide vitreux brun-noir
Densité：2.13 g/cm3
Point de fusion ： 1 702 °C (3 096 °F; 1 975 K)
Point d'ébullition：1.880 °C (3.420 °F; 2.150 K)
Solubilité dans l'eau, insoluble
Application
En raison de sa haute activité, la poudre de monoxyde de silicium peut être utilisée comme matière première pour la synthèse de céramique fine, telle que la poudre de céramique fine de nitrure de silicium et de carbure de silicium.Préparation de verres optiques et de matériaux semi-conducteurs.
Il est évaporé sous vide et appliqué sur une surface de miroir métallique pour instruments optiques en tant que film protecteur.Préparation de matériaux semi-conducteurs.
Caractéristique
Le monoxyde de silicium est un composé inorganique, sa formule chimique est SiO, sous une température et une pression normales, une poudre amorphe de couleur brun noir à loess, insoluble dans l'eau, peut se dissoudre dans l'acide fluorhydrique dilué et l'acide nitrique mélangés et libérer du tétrafluorure de silicium, lorsqu'il est chauffé dans l'air pour produire de la poudre blanche de dioxyde de silicium. Le monoxyde de silicium est instable et s'oxyde en silice dans l'air.
Formule chimique¼šSiO
Masse molaire 44,08 g/mol
Aspect : solide vitreux brun-noir
Densité：2.13 g/cm3
Point de fusion ： 1 702 °C (3 096 °F; 1 975 K)
Point d'ébullition：1.880 °C (3.420 °F; 2.150 K)
Solubilité dans l'eau, insoluble
Application
En raison de sa haute activité, la poudre de monoxyde de silicium peut être utilisée comme matière première pour la synthèse de céramique fine, telle que la poudre de céramique fine de nitrure de silicium et de carbure de silicium.Préparation de verres optiques et de matériaux semi-conducteurs.
Il est évaporé sous vide et appliqué sur une surface de miroir métallique pour instruments optiques en tant que film protecteur.Préparation de matériaux semi-conducteurs.
