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Français  |
7440-74-6
In
4900RT
99,9% -99,995%
Personnalisé
231-180-0
Caractéristique
Le matériau cible de pulvérisation est la matière première du film mince déposé par la méthode de pulvérisation de pulvérisation, principalement utilisée dans le champ d'affichage du panneau, à semi-conducteur et à l'enregistrement magnétique de l'énergie solaire.
La pureté de notre cible rotative d'indium peut être 4N5.
Application
Il s'agit d'une sorte de matériau de film mince magnétorésistant géant utilisé dans le champ microélectronique, l'affichage plan et le stockage.
Caractéristique
Le matériau cible de pulvérisation est la matière première du film mince déposé par la méthode de pulvérisation de pulvérisation, principalement utilisée dans le champ d'affichage du panneau, à semi-conducteur et à l'enregistrement magnétique de l'énergie solaire.
La pureté de notre cible rotative d'indium peut être 4N5.
Application
Il s'agit d'une sorte de matériau de film mince magnétorésistant géant utilisé dans le champ microélectronique, l'affichage plan et le stockage.
